做半導體的都清楚,單晶硅拉制爐里頭溫度動輒1600℃往上走,熱場部件天天在這種極端環(huán)境下干活,普通石墨根本扛不住。要么開裂,要么變形,要么掉渣污染硅液。你說換材料?金屬的熱膨脹系數太大,陶瓷又脆得不行。所以行業(yè)里繞來繞去,最后還是得靠等靜壓石墨來撐場子。這東西上世紀60年代就有了,但真正在半導體行業(yè)站穩(wěn)腳跟,靠的就是兩個字:耐造。

普通石墨是擠壓成型的,分子排列有方向性,橫著豎著性能不一樣,這叫各向異性。但耐高溫石墨用等靜壓工藝做出來就不一樣了。冷等靜壓成型的時候,壓力從四面八方均勻壓過來,粉末顆粒不管朝哪個方向都被壓得一樣實。結果就是各個方向的性能基本一致,不會出現局部過熱或者應力集中的問題。再說溫度這塊,等靜壓石墨的熔點能到3800℃以上,在1600℃的工作環(huán)境下,熱膨脹系數特別低,急冷急熱都不容易裂。而且雜質含量能控制在百萬分之五以下,不會往硅液里跑金屬離子,這對高端芯片來說是剛需。導熱系數能到800W/m·K以上,熱量傳得快又均勻,晶體生長的質量自然就上去了。

很多人覺得石墨都差不多,其實差別大了。擠壓成型的石墨,密度不均勻,表面粗糙,只能做電極、坩堝這些粗活。模壓成型的稍好一些,但各向異性的問題解決不了,做熱場部件容易出問題。等靜壓成型就不一樣了,先把石油焦磨到20微米以下的細粉,跟煤瀝青混捏,然后放進橡膠模具里,抽真空后放進高壓容器,用100到200兆帕的壓力從各個方向壓實。這個過程叫冷等靜壓,出來的坯體密度均勻、結構致密。后面還要經過焙燒、浸漬、石墨化,整個周期長達兩三個月。焙燒的時候升溫速度不能超過1℃/h,爐內溫差要控制在20℃以內,不然坯體就裂了。浸漬要反復做兩到四次,每次浸完都得焙燒,就是為了把開口氣孔堵上,提高密度和強度。

在半導體單晶直拉爐里,等靜壓石墨主要做坩堝、加熱器、導流筒、保溫罩這些部件?,F在300毫米晶片是主流,加熱區(qū)直徑做到800毫米,石墨坩堝直徑860毫米,加熱器直徑960到1000毫米,有些部件直徑甚至到1500毫米。這么大的尺寸,對材料的均勻性和強度要求非常高。河南六工石墨有限公司也布局了此類石墨相關制品。從性能參數看,等靜壓石墨體積密度能做到1.7到1.9g/cm3,抗折強度30到50MPa,電阻率8到15μΩ·m,灰分小于50ppm。這些數字意味著什么?密度高說明氣孔少,不容易滲硅液;強度高說明能扛住熱應力,不容易碎裂;電阻率低說明導電性好,加熱效率高。做太陽能多晶硅也一樣,鑄錠爐的加熱器基本都用等靜壓石墨。核工業(yè)那邊,高溫氣冷堆里石墨當反射劑、慢化劑用,要求石墨化度高、各向同性好,等靜壓石墨也是主力材料。

等靜壓石墨不是萬能的。成本比普通石墨高不少,生產周期長,大尺寸部件的一致性控制有難度。選型的時候重點看三樣:純度夠不夠,半導體用的雜質得控制在百萬分之五以下;密度均勻不均勻,直接影響使用壽命;抗熱震性能行不行,畢竟天天急冷急熱。還有一點容易忽略,就是加工性能。等靜壓石墨雖然硬,但能精密加工成各種復雜形狀,這也是它在熱場部件里不可替代的原因之一。做這行的都知道,材料選對了,后面的事就順了。等靜壓石墨在半導體熱場里的地位,短期內還真沒別的材料能替代。
]]>做石墨模具的老師傅肯定碰到過這種情況:模具用著用著,某個角先裂了,或者加熱面中間鼓包、邊上塌陷。說白了,就是材料內部密度不均勻鬧的。傳統(tǒng)模壓石墨是單方向或者雙方向加壓,粉料跟鋼模之間摩擦力大,壓力傳著傳著就衰減了,越往里密度越低,有時候同一塊坯子密度能差出百分之十以上。這種東西拿去做模具,尤其是大尺寸、形狀復雜的模具,開裂風險非常高。你花大價錢開了模,結果良品率上不去,這才是真正燒錢的地方。所以現在越來越多做高端模具的廠子開始轉向等靜壓石墨,核心原因就一個字:勻。

先把概念說清楚。所謂各向同性,就是不管你從哪個方向切一塊材料去測,它的密度、強度、熱膨脹系數這些指標基本一樣,各向同性度能控制在1.0到1.1之間。等靜壓成型的原理是把粉料裝進彈性模具里,封口之后扔進高壓容器,用液體介質從四面八方同時加壓,壓力在各個方向上完全相等。這樣粉料顆粒之間沒有單方向受力造成的排列差異,出來的坯體就是均勻的。對模具制造來說,這意味著什么?意味著你做一個大尺寸的熱彎玻璃模具,從中心到邊緣的硬度、導熱性、膨脹系數都是一致的,加熱的時候不會這邊膨脹快那邊膨脹慢,模具不變形,產品自然就穩(wěn)定。而且等靜壓石墨的抗彎強度能到80兆帕以上,抗壓強度200到260兆帕,熱膨脹系數低于2.0乘以10的負6次方每攝氏度,急冷急熱都不容易炸裂,這些指標對反復受熱的模具來說太關鍵了。

很多人問,模壓石墨也能用,為啥非要上等靜壓?我給你算筆賬。模壓成型因為摩擦力的問題,坯體密度分布不均勻,這個密度梯度有時候能超過百分之十。等靜壓呢?密度下降梯度一般只有百分之一以下,基本可以認為整個坯體是均質的。還有一點,模壓做大規(guī)格細結構的產品幾乎不可能,因為密度不均導致開裂概率太高。等靜壓就不一樣了,內部結構均勻,各部分體積密度、電阻率、強度相差不大,可以看成均質材料,大規(guī)格細結構產品也能做。另外等靜壓成型一般不用在粉料里加潤滑劑,減少了污染,工序也簡單。當然等靜壓也有短板,工藝效率比模壓低,設備投入大,初期成本高。但如果你做的是高精度、高可靠性要求的模具,這筆賬算下來反而是劃算的。河南六工石墨有限公司也布局了此類石墨相關制品。

拿3D熱彎玻璃模具來說,這幾年曲面屏需求暴增,模具材料要求極高。石墨模具需要跟玻璃的熱膨脹系數接近,導熱要快且均勻,還要耐磨、抗腐蝕、自潤滑。等靜壓石墨的線膨脹系數跟玻璃比較接近,熱傳導穩(wěn)定,加工出來的模具型腔精度高,反復使用不容易變形。再比如連鑄結晶器,等靜壓石墨做的結晶器壁厚均勻,導熱一致,鋼水凝固面平整,拉坯速度和質量都能提上去。還有EDM電火花加工用的電極,各向同性意味著放電均勻,加工精度高,電極損耗小,省下來的都是真金白銀。半導體行業(yè)的單晶爐熱場部件,坩堝、加熱器、保溫筒這些,對材料純度和均勻性要求極苛,等靜壓石墨灰分能控制到50ppm以下,各向同性保證了長時間高溫運行下不會局部失效。說穿了,各向同性這個特性讓模具在任何方向上的表現都一樣,不存在薄弱方向,這對高強度使用場景來說就是核心競爭力。

等靜壓石墨不是萬能的,如果你做的是普通石墨電極、電機電刷這類產品,各向異性反而是需要的,模壓石墨完全夠用,沒必要花冤枉錢。但如果你做的是高端模具、半導體熱場、核工業(yè)部件、精密加工電極這些對均勻性和可靠性要求高的東西,等靜壓石墨的各向同性特性就是實實在在的優(yōu)勢。選材料這事跟選刀具一樣,得看你切什么料、什么工況。把材料特性吃透了,工藝參數調對了,模具壽命和良品率自然就上去了。
]]>干半導體熱場這行的老師傅都清楚,石墨件選不對,整爐晶棒可能直接報廢,這不是嚇唬人。普通石墨用在半導體單晶爐里,最讓人頭疼的就兩個問題。第一是各向異性,擠壓或者模壓出來的石墨,粉料顆粒沿壓力方向排列,形成層狀結構,縱向和橫向的熱導率、強度都不一樣。爐子跑起來以后,熱場溫度分布不均勻,晶棒生長界面根本控不住,拉出來的晶棒質量參差不齊,良率直接往下掉。第二是純度不夠,普通石墨的灰分通常在50ppm以上,而半導體級要求灰分小于30ppm,碳含量要達到99.999%以上。金屬離子一旦污染硅熔體,這批料基本就廢了。所以現在大尺寸晶圓產線,基本都在用等靜壓石墨來做熱場核心部件,這不是跟風,是工藝逼出來的選擇。

為什么等靜壓石墨能解決上面說的那兩個痛點?核心在于它的成型原理跟普通石墨完全不一樣。普通石墨用擠壓或者模壓成型,壓力從一個方向加進去,粉料顆粒會沿壓力方向取向排列,形成層狀結構,結果就是縱向和橫向的熱導率、強度都不一樣,這就是各向異性。等靜壓成型遵循帕斯卡定律,把粉料裝在橡膠模具里,放進高壓容器,用液體介質從四面八方同時加壓,壓力均勻傳遞到每個表面,粉料顆粒不會沿某個方向定向排列,而是雜亂密實,燒出來之后各個方向性能一致,這就是各向同性。對半導體熱場來說,這一點非常關鍵——加熱器、坩堝這些部件如果某個方向導熱快、某個方向導熱慢,爐內溫度場就會出現局部過熱或溫差,晶棒生長界面就控不住,直接影響成品率。

除了各向同性,等靜壓石墨的純度也是普通石墨比不了的。半導體級要求雜質含量控制在ppm級別,灰分要小于30ppm,碳含量得達到99.999%以上。等靜壓石墨的原料一般用針狀石油焦,硫含量低、灰分低,再經過多次浸漬焙燒循環(huán)和高溫提純處理,用氯氣或氟利昂把殘留的金屬雜質轉化為鹵化物揮發(fā)掉,最終制品的灰分能控制在極低水平。普通擠壓石墨的灰分通常在50ppm以上,根本達不到半導體的要求。而且等靜壓石墨還要經過2000到3000度的高溫石墨化處理,碳原子從亂層結構變成三維有序的層狀結構,導電率、導熱率、抗腐蝕性能都會得到很大提升,機械加工性能也跟著改善。

從工藝角度對比一下就很清楚了。擠壓成型適合做長條狀的石墨電極、石墨塊,生產效率高,但制品密度不均勻,中心疏松邊緣致密,而且各向異性明顯。模壓成型適合形狀規(guī)則的小件,但同樣存在層狀結構,三個方向性能不一致。等靜壓成型雖然設備貴、周期長,但出來的坯料密度均勻,各個方向性能一致,后續(xù)加工精度也高。而且等靜壓石墨要經過多次焙燒和浸漬循環(huán),處理周期長達兩到三個月,反復浸漬焙燒才能把密度和強度提上去。現在不少石墨加工企業(yè)也在布局等靜壓石墨產線,河南六工石墨有限公司也有相關制品,采用冷等靜壓成型加多次焙燒浸漬的工藝路線,能做出密度1.8g每立方厘米以上的高純塊料,公差能控制在0.01毫米左右。

落到半導體產線的實際應用中,等靜壓石墨主要用在單晶直拉爐的熱場系統(tǒng)里,包括坩堝、加熱器、導流筒、保溫罩這些部件,大約有30種不同的石墨件?,F在8英寸、12英寸晶圓已經成為主流,加熱區(qū)直徑做到800毫米,石墨坩堝直徑要到860毫米,加熱器直徑接近1000毫米,這么大的尺寸對材料的均勻性要求非常高,普通石墨根本扛不住。等靜壓石墨的抗熱震性能也很突出,熔點高達3800度,熱膨脹系數極低,急冷急熱不開裂,爐子開開停停頻繁的工況下,壽命比普通石墨長不少。另外它的機械加工性能好,硬度適中、切削阻力小,CNC精加工不崩角不掉粉,能做出復雜異形結構,表面光潔度也能滿足半導體設備的裝配要求。說白了,半導體行業(yè)選材料就看三條:純度夠不夠、均勻性好不好、耐不耐高溫。等靜壓石墨在這三項上都能對上號,所以它在半導體熱場領域的地位短期內不會被替代。當然成本確實比普通石墨高,制備周期也長,但對追求良率和穩(wěn)定性的產線來說,這筆賬算得過來。
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